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天眼查App顯示，近日，晶芯成（北京）科技有限公司與合肥晶合集成電路股份有限公司聯(lián)合申請(qǐng)了一項(xiàng)名為“掩膜圖案的生成方法、半導(dǎo)體封裝器件及制造方法”的發(fā)明專利，專利號(hào)為CN202411719272.7。該專利技術(shù)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體封裝器件的制造，通過優(yōu)化掩膜圖案的設(shè)計(jì)，降低了再分布層絕緣層薄膜斷裂或脫落的風(fēng)險(xiǎn)，從而提升了器件的整體性能。

根據(jù)專利摘要，該技術(shù)首先接收初始掩膜圖案，并在初始掩膜圖案中存在滿足特定條件的目標(biāo)內(nèi)角時(shí)，對(duì)其進(jìn)行圓弧鈍化處理，使得構(gòu)成目標(biāo)內(nèi)角的兩條邊之間形成圓弧過渡。隨后，對(duì)處理后的掩膜圖案進(jìn)行邏輯運(yùn)算，最終生成目標(biāo)掩膜圖案。這一創(chuàng)新設(shè)計(jì)不僅提高了半導(dǎo)體封裝器件的可靠性，還為未來半導(dǎo)體制造技術(shù)的發(fā)展提供了新的思路。

該專利的申請(qǐng)標(biāo)志著晶芯成與合肥晶合在半導(dǎo)體封裝技術(shù)領(lǐng)域的進(jìn)一步突破，有望為相關(guān)行業(yè)帶來深遠(yuǎn)影響。

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