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消息稱美國環(huán)境保護(hù)局?jǐn)M結(jié)束“能源之星”節(jié)能認(rèn)證
已啟用30余年。
楊亮
11小時前
天眼查App顯示,合肥晶合集成電路股份有限公司于2024年12月4日公開了一項重要的發(fā)明專利,專利名稱為“半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制備方法”,專利號為CN202411766745.9。該專利由朱小鋒發(fā)明,華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司代理。
該專利涉及一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制備方法,主要包括提供襯底、形成第一介質(zhì)層、形成第一通孔、形成犧牲層、形成第二介質(zhì)層、形成第二通孔以及去除犧牲層等步驟。通過兩步通孔形成刻蝕通孔,該技術(shù)有效防止了現(xiàn)有技術(shù)中由于高深寬比和刻蝕的微負(fù)載效應(yīng)而出現(xiàn)的通孔底部沒打開或者通孔內(nèi)導(dǎo)線的電阻偏大的問題。
該專利的意想不到的效果是確保通孔底部被完全打開,降低通孔內(nèi)導(dǎo)線的電阻,避免形成寄生電容,從而提高器件的性能。這一創(chuàng)新技術(shù)有望在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域帶來顯著的技術(shù)進(jìn)步和應(yīng)用前景。
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