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天眼查App顯示，近日，盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司與盛帷半導(dǎo)體設(shè)備（上海）有限公司聯(lián)合研發(fā)的“晶圓清洗裝置”發(fā)明專利正式公開。該專利由徐融和王俊兩位發(fā)明人共同設(shè)計(jì)，旨在解決傳統(tǒng)晶圓清洗設(shè)備中SPM溶液浪費(fèi)的問題。

該裝置包括第一清洗槽、第二清洗槽、存儲(chǔ)槽、第一加熱器和控制器。通過存儲(chǔ)槽對(duì)第二清洗槽排放的SPM溶液進(jìn)行存儲(chǔ)，并在第一清洗槽進(jìn)行SPM溶液置換時(shí)，控制器控制存儲(chǔ)槽將經(jīng)過第一加熱器加熱至預(yù)設(shè)溫度區(qū)間的SPM溶液輸送至第一清洗槽。這一設(shè)計(jì)不僅實(shí)現(xiàn)了SPM溶液的再次利用，還進(jìn)一步節(jié)省了溶液的使用量。

盛美半導(dǎo)體表示，該技術(shù)的應(yīng)用將顯著降低晶圓清洗過程中的成本，同時(shí)提高清洗效率，為半導(dǎo)體制造行業(yè)帶來新的技術(shù)突破。該專利的公開標(biāo)志著公司在晶圓清洗技術(shù)領(lǐng)域的持續(xù)創(chuàng)新和領(lǐng)先地位。

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