商業(yè)
三星和英偉達宣布共建 AI 工廠,采購超 5 萬塊 GPU 
三星與英偉達合作建設超5萬GPU的AI工廠,推進數(shù)字孿生制造、HBM4研發(fā)及AI-RAN等技術。 
楊亮
44分鐘前
天眼查App顯示,盛美半導體設備(上海)股份有限公司于2023年6月28日申請了一項名為“具有液體排放功能的晶圓傳輸裝置”的發(fā)明專利,并于2024年12月31日正式公開。該專利由朱國輝、孫建、秦真江和王暉共同發(fā)明,旨在解決晶圓傳輸過程中液體滴落的問題。
該裝置包括機器手、接液裝置、排液裝置、控制器和收集倉。接液裝置設置在機器手下方,并隨機器手移動,以接收機器手上滴落的液體。排液裝置包括排液管路和控制閥,排液管路與接液裝置連接,控制閥設置于排液管路,用于控制排液管路的通斷??刂破髋c機器手和控制閥分別通信連接,用于控制機器手的移動和控制閥的打開和關閉。收集倉位于預定排液位置。
當接液裝置內(nèi)液體的液位達到預設液位時,控制器先控制機器手移動到預定排液位置,再控制控制閥打開,使得排液管路向收集倉排放接液裝置內(nèi)的液體。這一設計不僅能夠控制接液裝置內(nèi)液體的存儲和排出,還不限制機器手的運動,從而不影響機器手的正常工藝時間。
該專利的公開標志著盛美半導體在晶圓傳輸技術領域的又一重要突破,有望進一步提升半導體制造的生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質量。
風險警告:本文根據(jù)網(wǎng)絡內(nèi)容由AI生成,內(nèi)容僅供參考,不應作為專業(yè)建議或決策依據(jù)。用戶應自行判斷和驗證信息的準確性和可靠性,本站不承擔可能產(chǎn)生的任何風險和責任。內(nèi)容如有問題,可聯(lián)系本站刪除。
