商業(yè)
報道稱蔚來正討論為芯片自研部門引入戰(zhàn)略投資者
蔚來擬為芯片業(yè)務(wù)引入戰(zhàn)投,保持控制權(quán),已推出兩款自研芯片,計劃分階段調(diào)整組織結(jié)構(gòu)以優(yōu)化經(jīng)營。
楊亮
1小時前
據(jù)韓媒the bell報道,三星電子正計劃啟動采用常規(guī)結(jié)構(gòu)的1e nm制程DRAM研發(fā)。這一舉措旨在實現(xiàn)先進內(nèi)存開發(fā)的多軌化,為未來可能的商業(yè)化提供更豐富的技術(shù)儲備。
結(jié)合三星前任存儲器業(yè)務(wù)負(fù)責(zé)人李禎培今年9月展示的路線圖以及《韓國經(jīng)濟日報》10月的報道,三星電子原計劃在2026年推出1d nm內(nèi)存,隨后于2027年推出基于4F2 VCT創(chuàng)新結(jié)構(gòu)的0a nm內(nèi)存。然而,韓媒表示1e nm DRAM有望于2028年推出,若其最終走向商業(yè)化,則4F2 VCT DRAM的量產(chǎn)預(yù)計將至少延至2029年。
4F2 VCT DRAM的優(yōu)勢在于其DRAM單元更為小巧,且能更有效利用垂直方向空間。然而,這也意味著其生產(chǎn)流程將引入大量新技術(shù)和新設(shè)備,大幅提升資本支出和生產(chǎn)成本。相比之下,延續(xù)傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)的1e nm DRAM具有明顯的成本優(yōu)勢。
內(nèi)部消息人士透露,在經(jīng)歷縮小HBM開發(fā)團隊規(guī)模導(dǎo)致未能在HBM市場占據(jù)有利地位的重大戰(zhàn)略錯誤后,三星內(nèi)部忽視非主要產(chǎn)品技術(shù)開發(fā)的氛圍已有很大改善。這一變化推動了1e nm DRAM等“備選技術(shù)”的發(fā)展。