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上海新陽半導體材料股份有限公司推出新型清洗液專利

天眼查App顯示,上海新陽半導體材料股份有限公司于2023年6月30日公開了一項名為“一種清洗液”的發(fā)明專利,專利號為CN202310795357.2。該清洗液的原料包括氧化劑、胺類有機物、氟化物、緩蝕劑、螯合劑、表面活性劑以及水,各組分質(zhì)量分數(shù)之和為100%。

該清洗液具有多項優(yōu)點,包括較佳的穩(wěn)定性、對蝕刻后殘余物的清洗效果、選擇性移除TiN硬掩模的能力,以及抑制銅或銅合金及鈷或鈷合金損傷的特性。這些特性使得該清洗液在半導體制造過程中具有廣泛的應用前景。

上海新陽半導體材料股份有限公司位于上海市松江區(qū)思賢路3600號,是一家專注于半導體材料研發(fā)和生產(chǎn)的企業(yè)。此次公開的專利進一步展示了該公司在半導體材料領域的技術(shù)實力和創(chuàng)新能力。

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